简介:摘要:本研究旨在探究碳化硅晶体的缺陷与电学特性之间的关系。通过系统性的实验分析,发现不同类型的晶体缺陷与电学性能之间存在密切关联,为深入理解碳化硅材料的性能提供了重要线索。本文结合电学测试和缺陷表征,揭示了晶体缺陷对电子迁移率、载流子浓度等电学特性的影响机制。结果不仅拓展了对碳化硅材料的认知,也为材料的进一步优化与应用提供了有力支持。
简介:从碳化硅(SiC)功率半导体器件的等效电路入手,分别讨论了碳化硅肖特基二极管(SiCSBD)与碳化硅结型场效应功率晶体管(SiCJFET)的稳态与暂态特性。分析并解决了碳化硅器件开通电压与驱动电压不匹配的问题,设计了一种SiCJEFT功率开关器件的驱动电路。实验结果表明,SiC新器件具有良好的开关特性,驱动电路可以有效驱动SiCJFET器件。
简介:本文介绍了意法半导体公司(STMicroelectronics)首次提出的1200V/20A的SiCMOSFET,并与1200V常闭型SiCJFET(结型场效应晶体管)和1200VSiCBJT(双极结型晶体管)作了对比。我们全面比较了三种开关器件工作在T=25℃、电流变化范围1A~7A的动态特性,并在T=125℃、I_D=7A条件下做了快速评估。尽管SiCMOSFET的比通态电阻(Ron*A)很高,但与另外两种器件相比仍被认为是最有前景的开关器件:SiCMOSFET的总动态损耗远远低于SiCBJT和常闭型SiCJFET,且驱动方案非常简单,因此在高频、高效功率转换领域中SiCMOSFET是最好的选择。
简介:摘 要:为改善化学机械抛光加工碳化硅试件过程中存在的表面质量差等问题,将超声振动辅助化学机械抛光加工碳化硅与化学机械抛光进行对比,研究超声振动辅助抛光的效果。