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IBM宣布22nm半导体光刻制造工艺

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摘要 <正>IBM日前宣布了能够支持22nm制程的全套半导体光刻制造工艺解决方案,能够在继续使用当前光刻技术的前提下,满足今起直至2012年前后半导体工业对制程进化的工艺需求。IBM的新技术为"运算微缩"(ComputationScaling,CS)技术,能够在不提升光刻激光波长的前提下提升制程。IBM半导体研发中心副总裁GaryPatton认为,传统的微缩投影技术过于依赖设备的光学分辨率,而"运算微缩"技术则

DOI wjvx2zen47/1564074

作者吴琪乐

机构地区不详

出处《半导体信息》 2012年4期

关键词半导体光刻 IBM NM 制造工艺光学分辨率光刻技术

分类 [电子电信][物理电子学]

出版日期 2012年04月14日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）