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59 个结果
  • 简介:ThegrowthdetectsinNd:YCa4O(BO3)3(Nd:YCOB)crystalswereinvestigatedbytransmissionsynchrotrontopography.ItwasfoundthatgrowthstriationsweretheprimarydefectsinNd:YCOBcrystals.Grown-indislocations.mosaicblocksandinclusionswerealsoobseredinthecrystals.Theeffectoftemperaturefieldontheformationofgrowthdefectsinthecrystalswasdiscussed.

  • 标签: 晶体缺陷 Nd:YCa4O(BO3)3 辐照地形观测
  • 简介:用同步辐射角分辨偏上光电子谱对K/Ru(101^-0)表面上吸附的CO分子轨道的对称性测量发现:结合能在11.2eV的CO-4α1(4σ)分子轨道对s偏振光(在沿<12^-10>的入射面)是禁戒的。结果表明由于K的强烈影响,CO的分子轨道重新排列(sp^2杂化)。根据选择定则和分子轨道的对称性说明,sp^2再杂化的CO分子吸附的桥位取向是<12^-10>晶向。

  • 标签: K/Ru(101^-0)表面 4α1轨道 对称性 CO 分子轨道 偏振光电子谱
  • 简介:采用同步辐射白光形貌术结合化学腐蚀法研究了TNAB系列晶体NdxGd1-xAl3(BO3)4(NGAB)和YbxY1-xAl3(BO3)4(YbYAB)晶体中的生长缺陷。发现生长孪晶是该系列晶体中普遍存在的缺陷。NGAB晶体中的孪晶为180°旋转孪晶,操作轴为[0001]轴,即结构的三次对称轴,该孪晶以结构因子的衬度出现在X射线形貌像中:而YbYAB晶体中的孪晶则为反演孪晶,主晶与孪晶的结构互为中心对称。该孪晶在X射线形貌像中不出现畸的衬底,而仅出现界面的运动学衬度。

  • 标签: NdxY1-xAl3(BO3)4 生长缺陷 晶体缺陷 激光晶体 同步辐射白光形貌术 化学腐蚀法
  • 简介:目前,北京同步辐射装置4W1A束线的双晶单色器存在着调节困难、单色光出口不固定等问题,本文对其中原因进行了讨论,并提出一种新型结构的双晶单色器。此单色器具有调节简单、波长切换方便等优点,并实现了单色光固定出口。从而能够大大缩短调光时间,提高4W1A束线专用光的用光效率。

  • 标签: 北京同步辐射装置 4W1A束线 双晶单色器 用光效率
  • 简介:采用EXAFS方法研究了经中温等温和低温LN2处理的2mol%Y2O3-ZrO2陶瓷中Zr^4+和Y^3+离子的近邻结构。结果表明,与中温等温试样相比,LN2处理的试样中Zr-O层和Zr-Zr(Y)层的配位数显著减少,平均键长明显缩短;Y-O层配位数减少,Y-Zr(Y)层平均键长伸长;各配位层畸变程度均增大。两个试样的Y-O层配位数均高于Zr-O层配位数,表明点阵中的氧空位倾向于与Zr离子为邻。分析认为,该试样Zr-O配位层中较多的氧空位主要来源于从高温快速冷却时所保留下来的Schottky缺陷,对四方相稳定性和中温相变具有重要的影响。

  • 标签: ZRO2陶瓷 近邻结构 EXAFS 氧化锆陶瓷 锆(Ⅳ) 钇(Ⅲ)
  • 简介:利用原子力显微镜,同步辐射X射线形貌术和化学腐蚀光学显微等方法深入研究了KTiOAsO4晶体缺陷中的铁电畴和位错。首次用原子力显微镜给出了用两种腐蚀剂腐蚀过的KTA晶体表面的铁电畴和位错蚀坑的照片及定量信息,如发现铁电畴的明区要高于暗区,且两者的粗糙度明显不同。这为研究各种晶体的生长缺陷开辟了一条新的途径。

  • 标签: KTiOAsO4晶体 原子力显微镜 同步辐射X射线形貌像 铁电畴 位错 激光倍频材料
  • 简介:利用同步辐射(BSRF)漫散射站四圆衍射仪,对SiC体单晶的结构进行了判定以及对利用常压化学气相沉积(APCVD)生长的3C-SiC/Si(001)中的孪晶及含量进行了分析。六方{10-15}极图证明了该SiC单晶为6H(H为Hexagonal的缩写)结构。对3C-SiC外延薄膜,Φ扫描证明了3C-SiC外延生长于Si衬底上,外延取向关系为:(001)3C-SiC//(001)Si,[111]3C-SiC//[111]Si。3C-SiC的{111}极图在x=15.8°出现了新的衍射,采用六方{10-10}极图以及基体倒格点111、孪晶倒格点002的Mapping分析了x=15.8°处产生的衍射为3C-SiC孪晶所致,并利用ω扫描估算了孪晶的含量约为1%。

  • 标签: X射线四圆衍射仪 SiC体单晶 3C-SiC外延层 孪晶 APCVD 碳化硅
  • 简介:ThisworkinvestigatedC2F6/O2/ArplasmachemistryanditseffectontheetchingcharacteristicsofSiCOHlow-kdielectricsin60MHz/2MHzdual-frequencycapacitivelycoupleddischarge.FortheC2F6/Arplasma,theincreaseinthelow-frequency(LF)powerledtoanincreasedionimpact,promptingthedissociationofC2F6withhigherreactionenergy.Asaresult,fluorocarbonradicalswithahighF/Cratiodecreased.Theincreaseinthedischargepressureledtoadecreaseintheelectrontemperature,resultinginthedecreaseofC2F6dissociation.FortheC2F6/O2/Arplasma,theincreaseintheLFpowerpromptedthereactionbetweenO2andC2F6,resultingintheeliminationofCF3andCF2radicals,andtheproductionofanF-richplasmaenvironment.TheF-richplasmaimprovedtheetchingcharacteristicsofSiCOHlow-kfilms,leadingtoahighetchingrateandasmoothetchedsurface.

  • 标签: 等离子体化学 放电特性 蚀刻 薄膜 双频率 功率LED
  • 简介:采用Czochralski法,我们成功地生长了大尺寸GdCa4O(BO3)3单晶。在对晶体的完整性进行检测的过程中发现:晶体中存在亚晶界,该晶界贯穿整个大单晶。由于亚晶界两边的单体存在取向差,在同步辐射形貌像中可观察到像漂移。根据高分辨X射线衍射所确定的取向差,我们计算了对应几个典型衍射的形貌像漂移,计算结果与从形貌像中测量的结果符合得很好。

  • 标签: GdCa4O(BO3)3晶体 小角晶界 同步辐射 形貌 像漂移 非线性光学晶体
  • 简介:采用水热合成法制备了Ni/CeO2-ZrO2-A12O3催化剂。进行了添加和不添加水蒸气的CH4-CO2催化重整反应,测量了积碳量,并用EXAFS手段测试了催化剂Ni的K吸收边。结果表明,反应前后最近邻Ni—Ni配位距离无明显变化,而配位数却变化明显。无水蒸气反应后Ni-Ni配位数有较大幅度的减少,而添加了水蒸汽,Ni—Ni配位数比反应前减少幅度小。水蒸气的添加能减少积碳量,稳定催化剂中Ni的结构,从而提高催化反应的稳定性。

  • 标签: 水蒸气 CH4 CO2 Ni/CeO2-ZrO2-A12O3催化剂 水热合成法 EXAFS