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  • 简介:TN305.72002032298光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量=Opticalproximitycorrectionforimprovingpatternqualityinsubmicronphotolithography[刊,中]/石瑞英(四川大学物理系.四川,成都(610064)),郭永康(中科院微电子中心.北京(100010))//半导体技术.-2001,26(3).-20-26论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。图8表1参14(李瑞琴)TN305.72002032299光刻技术在微细加工中的应用=Applicationoflithographytechnologytomicroelectronicmanufacturing[刊,中]/刘建海(上海先进半导体制造有限

  • 标签: 微细加工光学技术 光学邻近校正 光刻技术 半导体技术 中科院 大学物理
  • 简介:TN305.72005032365硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用=Fabricationofsilicon-basedmicrostructuresandtheirapplicationinmi-crochipsE刊,中]/孙洋(清华大学深圳研究生院.广东,深圳(518057)),钱可元…∥半导体光电.-2004,25(6).-477-479,483基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)Si材料进行了湿法刻

  • 标签: 衍射光场 飞秒激光 光刻胶 激光微细加工 光学工艺 抛光液
  • 简介:生产中遇到许多易变形弹性薄片零件,如常见的垫圈、摩擦片、特别的碟性弹簧,薄板、飞片等,它们刚性差、散热困难、装夹时易引起装夹变形,加工时会出现翘曲,严重影响零件的加工精度。对这类零件的精密加工进行研究,对减少工件的热处理变形及装夹变形,减少变形工作对零件最终形成精度的影响,从而保证弹性薄片类零件的加工精度具有至关重要的意义。提高零件精加工前的精度以及减少零件装夹变形和减小切削力是提高零件加工精度的重要措施。对于力学性能要求较高的工件,一般都需要进行热处理,以提高工件的综合力学性能。

  • 标签: 弹性薄片零件 精密加工 力学性能 磨削工艺
  • 简介:TB85396031866高速转镜相机测试结果的专用TP-5型判读仪=ModelTP-5interpretoscopeofmeasuringresultoftheultraspeedrotating-mirrorcamera[刊,中]/韩立石,谭显祥(中物院流体物理所.四川,成都(610003))//光子学报.-1994,23(Z3).-271-275TP-5型判读仪主要用于判读和处理超高速转镜相机的测试结果。它是由脉片测量系统、放映系统和微机系统组成。图2表1参4(严兰)

  • 标签: 间歇式高速摄影机 光子学 高速摄影技术 高速转镜 流体物理 测试结果
  • 简介:微细切削技术是当前先进制造技术领域中的一个重要发展方向,微细切削的目的是通过机械切削的方式实现微小结构的精密成形。在微细切削过程中,刀具的姿态调整是确保微细切削顺利实施的一个重要环节。以微细车削中的刀具姿态微调为目标,提出了以图像处理为基础的在线检测方案和以斜锲机构为基础的刀具姿态微调技术方案。

  • 标签: 先进制造技术 刀具姿态 微细加工 姿态调整 微细切削 微调技术
  • 简介:为了解决高速CCD成像电路串扰问题,分析了产生串扰的原因,建立了CCD成像电路的串扰模型,提出了有效的抗串扰技术。对多通道的CCD视频信号采用带状线而非微带线并使用防护布线进行隔离。对多通道的电源供电进行了隔离,设计并采取有效的去耦电容布线方法,降低了寄生电感,避免了由电源公共阻抗引起的串扰。采用统一的地平面,对模拟电路和数字电路进行分区布局,避免了地弹对信号的影响。针对一个串扰较严重的CCD成像电路进行了实验,结果表明:采取上述抗串扰技术后,通道隔离度大于60dB,有效降低了串扰,提高了图像质量。

  • 标签: 高速CCD 成像电路 串扰 传输线
  • 简介:TQ171.68497010634超精密光学抛光研究的进展及其发展趋势=Developmentandfeatureofultraprecisionopticalpolishing[刊,中]/滕霖,任敬心(西北工业大学.陕西,西安(710072))∥航空精密制造技术.—1996,32(3).—5—9综述了对精密光学抛光影响精度和质量的因素,对重要因素目前的研究进展进行了分析;介绍了新型

  • 标签: 光学抛光 发展趋势 精密制造技术 超精密 研究进展 西北工业大学
  • 简介:O72395021325磨抛工艺中HgCdTe晶片的表面损伤=SurfacedamageofHgCdTewafersinlappingandpolishing[刊,中]/姚英,蔡毅,欧明娣,梁宏林,朱惜辰(昆明物理所.云南,昆明(650223))//红外技术.—1994,16(5).—15—20用X射线反射形貌术研究了磨抛工艺在用Te溶剂法和布里奇曼法生长的碲镉汞晶片表面引入的

  • 标签: 光学加工 磨抛工艺 布里奇曼法 红外技术 表面损伤 射线反射
  • 简介:高功率固体激光装置对KDP晶体光学元件的基本要求是大口径、高精度面形质量、高激光损伤阈值、良好的表面粗糙度。但是KDP晶体本身具有质软、易潮解、脆性高、对温度变化敏感、易开裂等一系列不利于光学加工的特点,传统的研磨抛光法不适于加工高精度的大口径KDP元件。国外加工此类元件已广泛采用先进的单点金刚石车削技术(简称SPDT)。采用SPDT技术加工KDP晶体元件,主要存在3个方面的加工误差,即晶体的面形误差、表面粗糙度(包括表面疵病)以及小尺度波纹等。

  • 标签: KDP晶体 加工工艺 高功率固体激光装置 表面粗糙度 激光损伤阈值 光学元件
  • 简介:TN30595021329相移掩模的计算机模拟方法研究[学,中]/沈锋;中科院光电技术研究所.—62页.—1994.6研究了亚微米微细光刻技术的一个热门领域—相移掩模提高分辨率.从Hopkins理论出发,导出了一般情况下的二维物体的部分相干成像的简化强度

  • 标签: 相移掩模 计算机模拟 部分相干成像 技术研究所 光刻机 光刻技术
  • 简介:工件如图1所示,材料为1Crl8Ni9Ti,焊接结构件。加工的主要难点是工件内孔深且为盲孔,内孔底部为球面,几何精度要求高,薄壁,刚性差,容易引起变形。

  • 标签: 几何精度 深孔加工 变形误差 数控车床
  • 简介:TB853.1799042628高灵敏可见/紫外条纹相机的最小可测能量密度=Detectableminimumenergydensityofstreakcamera[刊,中]/李炳乾,王永昌(西安交通大学理学院现代物理研究所.陕西,西安(710049)),张小秋,龚美霞,山冰(中科院西安光机所瞬态光学国家重点实验室.陕西,西安(710068))//光学学报.—1998,18(12).—1727—1730分析了影响条纹相机最小可探测能量密度的主要因素,通过采用两级增强器级联的方法降低了条纹最小可探测能量密度。利用超短激光脉冲经过标准具后形成一个能量等比衰减的脉冲序列。对ZPT—3K紫外/可见皮秒条纹相机的最小可探测能量密度进行了测量。测量表明:相机最小可探测能量密度在可见波段(532nm)达1×10-13J/cm2。图3参6(严寒)

  • 标签: 最小可探测能量密度 条纹相机 超短激光脉冲 瞬态光学 高灵敏 物理研究所
  • 简介:TB8722003053776高速扫描相机时间测量不确定度分析=Uncertaintyanalysisofthemeasurementresultsofhighspeedrotatingmirrorstreakcamera[刊,中]/谭显祥(中科院流体物理研究所.四川,绵阳(621900))//光子学报.-2002,31(11).-1387-1390以国内普遍使用的SJZ-30型高速扫描相机为例,用精测转速方法的结果处理数据,转速测量相对合成不确定度小于0.1%,时间间隔测量的相对扩展不确定度为0.2%。扫描速度在像面上的位置误差,采用"中值扫描速度"可予以校正。同时讨论了进一步降低转速测量不

  • 标签: 高速扫描相机 不确定度分析 扫描速度 扩展不确定度 时间间隔测量 合成不确定度
  • 简介:小工具数控抛光技术已成为ICF大口径光学元件制造的主工艺技术,由于这种工艺技术使用了比被加工元件外形尺寸小得多的抛光磨头来进行加工,所以被加工表面将呈现出不同于传统方法加工表面的特征。与传统抛光技术相比,被加工表面的某些频率成分可能增加,可能会对光学系统带来不良的影响。

  • 标签: 数控加工工艺 大口径光学元件 调制度 抛光技术 加工表面 传统方法