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微细加工技术与设备

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摘要论述了离子束曝光技术的原理、特点,分析了其面临的关键技术问题,如掩模技术、离子源技术、图像对准技术等,并介绍了这些年来国外的一些研究机构及公司在离子束曝光技术上的研究进展及

DOI 7dmoo5vrjn/700954

作者

机构地区不详

出处《中国光学》 2004年4期

关键词微细加工技术离子束刻蚀电子束曝光机研究进展掩模技术关键技术问题

分类 [理学][物理]

出版日期 2004年04月14日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

中国光学

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