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  • 简介:光刻胶剖面形貌和关键尺寸(CD)是光刻的关键参数,而实际光刻中受到前层次图形的影响,尤其是后端布线工艺受到前面工序高低台阶影响十分严重。文章基于光学干涉原理及King的胶厚理论模型和光刻胶SwingCurve曲线研究了光刻胶跨越高台阶对成像的影响,分析了造成光刻胶剖面和关键尺寸变化的主要原因。一是台阶处衬底的反射影响了光刻胶剖面形貌;二是高台阶处光刻胶厚度比正常厚度变薄导致光刻曝光条件不适用于高台阶处光刻胶。最后通过优化胶厚及增加底部抗反射层有效解决CD差异和改善光刻胶形貌。

  • 标签: 台阶 光刻胶厚度 CD差异 抗反射层
  • 简介:伴随着国内市场竞争的日趋激烈,常规的MPW(多项目晶圆)布局也不能满足客户的要求,同时也不能最大限度地降低设计公司的研发成本,也不利于国内foundry厂市场的开拓。鉴于此,文章着重提出了利用光刻机挡板把罩进行区域划分,在不增加流片和满足客户要求的前提下,使罩得到最大限度的利用,降低了客户的流片费用。通过在15cm片上流片验证,更加突出了此优化罩布局的方法在研发成本和满足客户要求等方面的优越性,因而这种布局对我国集成电路的发展和新产品的研发工作,特别是对国内中小企业的成长提供了有力的支持,也为foundry厂赢得市场提供了重要的手段。

  • 标签: 光罩 挡板 布局 MPW 划片
  • 简介:<正>IBM日前宣布了能够支持22nm制程的全套半导体光刻制造工艺解决方案,能够在继续使用当前光刻技术的前提下,满足今起直至2012年前后半导体工业对制程进化的工艺需求。IBM的新技术为"运算微缩"(ComputationScaling,CS)技术,能够在不提升光刻激光波长的前提下提升制程。IBM半导体研发中心副总裁GaryPatton认为,传统的微缩投影技术过于依赖设备的光学分辨率,而"运算微缩"技术则

  • 标签: 半导体光刻 IBM NM 制造工艺 光学分辨率 光刻技术
  • 简介:短信在中国的蓬勃发展,实在是给人类所认为的高高在上的理性以极大的打击.因此任何基于理性分析的文章,在移动增值这个领域里面都是大胆的.对于移动通信这样一个复杂的生态系统,任何基于某些假定和一定逻辑规则推理出来的结论都有可能是片面的,在这个系统里,进化论成为了主宰."物竞天择,适者生存"成为唯一的道理.

  • 标签: 移动增值业务 服务提供商 SP 发展策略 市场
  • 简介:1前言近年来,超LSI开发进展十分惊人.虽然代表0.5μm时代器件的16MDRAM,由于受到当时半导体业不景气的影响而其开发比当初预测要迟些,但其批量生产逐渐达到稳定化.同时,下一代器件--64MDRAM和256MDRAM的研究开发依然如预测的进度进行着,现状是:丝毫未感到开发进度在放缓.

  • 标签: 光刻技术 时代光刻
  • 简介:Si1-x-yGexCy是继Si和GaAs之后又一重要的半导体材料。由于Si1-x-yGexCy具有优于纯Si材料的良好特性,器件和制程又可与SL工艺兼容,采用Si1-x-yGexCy及其Si1-x-yGexCy/Si结所制作出来的器件如异质结双极晶体管(HeterojunctionBipolarTransistor,HBT),其电性能几乎可达到GaAs等化合物半导体制作的同类器件的水平,而且在成本上低于GaAsHBT。因此Si1-x-yGexCy可能是未来微电子发展进程中必不可少、并起着关键作用的一种材料。文章对Si1-x-yGexCy薄膜的表征进行了探索,在总结大量数据的基础上,验证了利用Si1-x-yGexCy薄膜的反射率进行光学表征的方法的可行性。同时,文章系统研究了Si1-x-yGexCy薄膜的工艺条件、薄膜成份、薄膜厚度等参数对光刻对准性能的影响。

  • 标签: SI1-X-YGEXCY 光学表征对准性能 HBT异质结双极晶体管
  • 简介:在0.18υm高压产品工艺生产过程中,作者发现晶片在钨化学机械研磨制程后会有很严重的鸽剥落缺陷,此种缺陷成行排列,有一定规律,与罩的曝光间膈距离相匹配,该缺陷会导致产品良率有非常明显的下降。同时在生产过程中也发现在MIM上极板蚀刻后,有些聚合物难以去除,此种残留物也来自曝光的固定位置。因此解决这类与罩相关的缺陷和残留物显得尤为重要。作者经过深入的研究分析以及实验验证,通过对切割道上的罩对准标记进行优化,彻底解决了这两种缺陷问题,使得产品的良率得以提升。

  • 标签: 半导体技术 缺陷 光刻对准标记
  • 简介:先进节点逻辑集成电路制造是当前工业界的领先工艺。为实现接触(Contact)层的光刻,需要从两个关键方面进行处理:解析度和全间距的共有工艺窗口。离轴照明+相移掩模+亚解析度辅助图形多种解析度增强技术的组合使用是解决光刻成像的方法。从优化接触层离轴照明的类型方面解决光刻制造工艺的问题。

  • 标签: 离轴照明 照明类型 工艺窗口 掩模误差增强因子
  • 简介:Finder对于任何一个Mac用户而言.它是一个最重要的软件,可以是整个Mac操作系统的象征物。对于一个软件开发人员来说Finder首先是一个用于计算资源管理的Carbon程序.更重要的是Finder能帮助应用程序更好地得到用户的使用和加强协同其他计算资源能力。无论你是一个Mac开发者或是一个需要在Mac上部署软件的用户,本文都将告诉你有关这个软件的一些深层次信息。

  • 标签: Mac操作系统 FINDER 应用程序 登陆管理 接口 信息属性
  • 简介:<正>受国内产能过剩、欧美市场"双反"等多重打击,国内伏企业陷入发展困境,泥足深陷。2013年3月20日,无锡市中级人民法院依据《破产法》裁定,对无锡尚德太阳能电力有限公司实施破产重整,中国光伏曾经的标杆企业无锡尚德陨落。尚德之痛,折射了中国新能源产业的深层次问题。《证券日报》近期发表署名文章表示:表面上看,尚德破产乃产能过剩、海外融资等问题所致,实际上,尚德之痛更多折射出中国新能源产业发展的诸多深层次战略问题。文章作者腾飞,系国务院发展研究中心国际技术经济研究所

  • 标签: 尚德太阳能 无锡尚德 能源产业发展 光伏企业 中国光 海外融资
  • 简介:厂商动态阳光能源对外宣布将终止收购台湾景懋阳光能源近日宣布,因于2009年12月31日限期前,建议收购事项尚未取得台湾经济部投资审议委员会的批准,故终止收购

  • 标签: 光伏新闻
  • 简介:当前赛博空间已成为新的作战域,美军提出了赛博战基础研究(X计划)。为此,说明了该计划动因以及赛博作战空间的概念内涵。同时,介绍了该计划在技术领域的发展,并分析了实现的关键技术。可为我国开展该领域的深入研究提供参考和借鉴。

  • 标签: X计划 赛博战 赛博空间 赛博作战行动 任务建设
  • 简介:文章介绍了一种捷变频率源的设计方案。该方案设计的捷变频率源由10个不同频率的介质振荡器、十选一高速开关以及功率放大器三部分组成。在设计方案中,10个振荡器同时加电工作,输出频率信号到十选一开关,由TTL信号控制开关选通一路信号输出到功率放大器,功率放大器放大该信号并输出。该设计的主要特点是:高低温下频率误差小于0.3MHz,输出功率大于10dBm,相位噪声小于-75dBc/Hz/10kHz,杂波抑制大于65dBc。文中给出了设计过程、样品研制以及测试结果。

  • 标签: 振荡器 高速开关 功率放大器 频率误差 杂波抑制
  • 简介:Anewpyrometer,whichcansolvetheaffectionofemissivitychangeintemperaturemeasuring,hasbeendevelopedbydoubleY-typeopticalfibers.Themathematicalmodelofthenewpyrometerispresentedandtheerrorsofthenewpyrometerareanalyzed.

  • 标签: 高温计 发射率 双“丫”型光纤
  • 简介:突发分段和组合突发交换是解决突发交换中竞争问题的较好的技术,本文介绍了这两种技术,并用排队论模型分析了它们的分组丢失率性能,说明它们相对于JET的性能优势.

  • 标签: 光突发交换 分组丢失 分段 性能优势 组合 降低