目的观察近平滑念珠菌在不同培养基的形态转换现象,以及温度对其形态转换的影响。方法收集近平滑念珠菌正常人皮肤携带株及临床致病株和标准株,接种于改良Lee培养基和含桃红B的YPD培养基,观察其不同形态转换,以及温度变化对光滑（W）与皱褶（O）形态转换的影响。结果近平滑念珠菌在Lee培养基和含桃红B的YPD培养基上,均可以出现多种形态以及一定频率W-O转换现象。在观察W向O形态转换过程中发现,与25℃培养温度相比,37℃条件下光滑菌落形态占更多的比例。结论近平滑念珠菌体外培养时存在形态转换及W-O转换现象,且于37℃时更易保持光滑形态。含桃红B的YPD培养基也可以用于基本的W-O形态转换观察。
中国真菌学杂志
2010年2期
