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《无机化工信息》
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2004年2期
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日本纳米芯片加工用含氟蚀刻剂
日本纳米芯片加工用含氟蚀刻剂
(整期优先)网络出版时间:2004-02-12
作者:
化学工程
>无机化工
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资料简介
大金公司已经成为世界上第一家开发出低成本、大批量生产含氟蚀刻和清洁溶剂的生产工艺,产品用于纳米线宽的半导体。Osaka公司计划于2003年11月启动全球生产方案。
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大金公司已经成为世界上第一家开发出低成本、大批量生产含氟蚀刻和清洁溶剂的生产工艺,产品用于纳米线宽的半导体。Osaka公司计划于2003年11月启动全球生产方案。
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