简介：GD包装机在条盒OPP包裹过程中，由于各种原因极易产生不符合质量标准的产品，并流入下游工序。因此对设备进行相应改进，增加了条盒OPP检测装置。该装置通过实时检测通道中条盒OPP的状态，并通过外加独立控制器

简介：摘要： GD包装机在条盒 OPP包裹过程中，由于各种原因极易产生不符合质量标准的产品，并流入下游工序。因此对设备进行相应改进，增加了条盒 OPP检测装置。该装置通过实时检测通道中条盒 OPP的状态，并通过外加独立控制器

简介：摘要本文主要选取了一种在市场上最具认可度的BOPP原料，开展薄膜双向式拉伸加工处理实验操作，处于不同拉伸处理工艺条件下进行BOPP薄膜制备操作，深入研究所制备的薄膜拉伸处理过程、薄膜自身力学性能、薄膜自身光学性能，构建薄膜拉伸处理工艺，进一步研究薄膜拉伸处理成型其与薄膜各方面性能之间所对应的关系，以能够为今后BOPP薄膜相应工业生产运行及原料开发等提供参考。

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简介：2018年11月14-15日.在于美国加州圣克拉拉会议中心举行的IDTechEx2018展会中,SABIC(展位:Z31)展出了一款全新的透明耐高温薄膜产品——LEXAN^TMCXT。这款基于聚碳酸酯(PC)的创新材料专为快速增长的柔性印刷电子市场而开发,拥有出众的光学透明度和非常高的设计灵活性,在高温下能保持卓越的热稳定性和尺寸稳定性。

简介：摘要我国电力电子技术和计算机控制技术得以迅速的发展，使PLC在机械自动化发展过程中得到了更为广泛的应用，PLC具有功能性强、使用方便以及可靠性强的特点，在现代自动化设备的控制过程中具有重要地位。为了实现薄膜分切机的自动化水平的提高，需要就分切机的收卷、机械以及电气控制原理等环节上使用PLC作为薄膜分切机控制系统的核心，让控制工作得以同时发展，将主线电路得以保留，让PLC取代较为复杂的电气连线控制，并进行PLC的控制电路的相关设计工作。在一定程度上使电路得到简化，使机床发生故障的频率得以下降，让控制工作更加集中化，同时也降低了维修上的难度。在张力的检测上以及控制工作中，可以使用压力探头和张力自定控制仪所组成的闭合的回路，进而使放卷的速度得以有效的控制，是一种闭环控制的方式。与开环控制相比缺少了反馈的环节，采取闭环控制可以有效的提升分切机控制系统的精度以及稳定性能，同时也使薄膜分切机时刻处于一种稳定的张力环境中，使薄膜的质量和生产效率得以进一步的提升。

简介：摘要随着现代化脚步的加快，微电子技术的快速发展。普通的电池由于对环境能产生很大的污染，输出能量小，体积笨重等原因已被逐渐淘汰，压电薄膜俘能器以其环保，能便捷的获取能量等特点得到了快速的发展。从压电俘能器的压电材料出发，总结影响产能的几大材料压电陶瓷(PZT)、压电晶体(piezo-crystal)、压电复合材料PVDF。用MATLAB、ANSYS仿真软件对其数学模型、结构进行仿真。阐述俘能器的结构设计以及俘能器的俘能效果。

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简介：摘要本文主要从生产与消费两个方面，阐明了BOPP薄膜现阶段的发展现状，深入剖析和研究BOPP薄膜未来的发展及发展建议，从而能够确保BOPP薄膜实现可持续性的发展。

简介：量取滤液10000ml,醇提取工艺研究-干膏中盐酸小檗碱的含量测定［1～3］色谱条件,第2次提取干膏中盐酸小檗碱含量

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简介：摘要土工薄膜具有强度高.弹性好.耐腐.不易霉烂.不易虫蛀.吸湿小.比重轻.便于运输.成本低等优点，在许多水工建筑防渗中得到广泛应用，由于土工薄膜的材质不一样，适应的范围也不一样，所以在设计和施工过程中，要根据建设地实际情况，确定最佳实施方案，把握施工技术要点，保质保量完成施工。

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简介：激光切割技术是提高我国金属切割效率的有效工具，它可以满足我国现阶段的发展要求，光纤激光切割技术对于切割金属板是一种有效的方法，并且成本较低，操作过程简便，相对是比较经济的，对于制造商来说切割机的广泛使用可以为他们创造更多的利润。过去几年，能源消耗一直很低，但是最近逐渐变得更好。光纤激光器具有高切割性能和高速度性能，但光纤激光器是通过如何工作而提升工作效率的呢？本文主要研究了激光技术切割薄膜材料的效率。

简介：表1　PE防雾无滴薄膜配方,防雾剂在膜内含量0.12%防雾效果就可以了,聚乙烯防雾无滴薄膜是在原无滴母料生产中加入了一定比例的防雾剂全氟烷

简介：摘要采用X射线衍射分析(XRD)测试分析了多晶ZnO薄膜的晶格结构和力学性能。薄膜的制备采用了射频(RF)磁控溅射方法,并分别在不同温度下进行了退火处理。XRD分析显示随着退火温度的上升,薄膜的晶粒尺寸逐步增大,且C轴取向显著增强。测试结果表明适当的退火处理对ZnO薄膜的结晶品质有明显的改善。

简介：摘 要：本文拟从反应气体流量、射频电源的功率、产品表面温度和产品与喷头之间的距离四个方面单因素探索每个工艺条件对产品钝化膜层质量所产生的影响，从中得出每个因素单方面最适宜生产产品的工艺参数。然后再通过正交实验，设计 4因素 5水平试样，将各个工艺参数的影响综合进行比较，从中得出最适合生产的工艺参数。在 650V高压 VDMOS功率器件的表面制备 4KÅ氮化硅钝化膜的最佳工艺参数组合为：反应气体流量比例为 38:14，射频功率为 350W，硅片表面的温度为 390℃，硅片与喷头的距离为 340mils。经过试验得出结论，供 VDMOS半导体技术工作者参考。

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简介：摘要采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为500℃时制备的ZnO薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,结构致密,且沿c轴择优生长。

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