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简介：TQ174.758.2399053410半导陶瓷的红外吸收谱和喇曼散射谱=InfraredabsorptionandRamanscatteringspectraofsemiconductingceramics[刊,中]/胡绪洲,杨爱明,胡晓春（云南大学物理系.云南,昆明（650091））//半导体学报.—1998,19（7）.—503—509ZrO2.SiO2.P2O5半导陶瓷是由ZrO2、SiO2和H3PO4用高温同相反应制成。它的傅里叶红外吸收谱是

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简介：TQ174.758.2396032015掺杂Cr2+和Nd3+玻璃陶瓷的光谱特性=SpectroscopiccharacteristicsofCrandNddopedglass-ceramics[刊,中]/端木庆铎,苏春辉（长春光机学院材料工程系.吉林,长春（130022））//功能材料.-1995,26（1）.-48-51根据分相成核原理,通过一步热处理过程,制备了双掺杂B2O2-Al2O3-SiO2系统透明玻璃陶瓷。XRD分析确定主晶相为莫来石固溶体;分别测定了材料的吸收光谱、发射光谱和荧光寿命,分析讨论了铬和钕格位分布及光谱特点。图5表1参7（赵桂云）TQ325.796032016光学塑料的性能评价、应用及改性研究=Propertyevaluations,applicationsandmodificationstudiesofopticalplastics[刊,中]/杨柏,高长有,沈家骢（吉林大学化学系.吉林,长春（130023））//功能

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简介：据Ownsend公司目前预测，2009年前，全球塑料抗氧剂消费量年增长率为5％。这家美国聚合物公司称，世界塑料抗氧剂消费量现为31．8万吨／年。2004年中国占全球消费总量的6％。鉴于树脂生产快速增长，预计至2009年中国将占全球消费总量的10％。

简介：由石油化工研究院大庆化工研究中心编制完成的一项评价塑料抗氧化性的国家标准，目前通过了塑料标准化技术委员会塑料树脂产品分会的审查验收，经呈送国家质量监督检验检疫总局批准，即将在全国发布实施。

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简介：山东省临沂市三丰化工有限公司跟随市场发展，以石化公司的两聚装置为依托，结合不同的产品使用状况及需求，自主研制开发新型塑料助剂母粒SK—CM，它是一种高效复合塑料添加剂，由塑料专用添加剂如：抗氧剂、热稳定剂、光稳定剂、润滑剂等，根据相互间的协同效应和一定的配比造粒加工而成，

简介：抗氧剂可说是目前添加剂中最活跃的系列，新企业如雨后春笋，各具特色、功能越来越细的新品竞相参与竞争。该系列产品结构上依然是受阻酚类居多，使用的烷基酚却是各异，故其所赋予的抗氧剂性能大不相同，互相无法取代，这大大丰富了产品规格，分子结构也从单一分子向聚合性大分子发展，反映出其发展趋势。光稳定剂生产工艺日趋完善，各品种特性细分，难以替代，

简介：目前，硬质聚氨酯泡沫塑料（RPUV）在包装、运输减震及支撑材料的研究中已经得到了广泛的应用。但是未经阻燃处理的硬质聚氨酯泡沫塑料的氧指数仅约为17，易燃且不易自熄，存在极大的安全隐患。结合聚氨酯泡沫塑料的阻燃性能及燃烧特点，采取固相阻燃机理，选用环保型的膨胀阻燃体系可膨胀石墨（EG）作为添加型阻燃剂，探索了EG对聚氨酯泡沫塑料的阻燃性能、力学性能的影响。

简介：选用90Sr-90Yβ放射源照射自制的塑料闪烁探测器，测量了光子在塑料闪烁体内部的传输时间，计算出传输速率和不确定度，为以后的核物理实验计算以及闪烁体参数测量提供相关数据参考。

简介：TQ171.68497010634超精密光学抛光研究的进展及其发展趋势=Developmentandfeatureofultraprecisionopticalpolishing[刊,中]/滕霖,任敬心(西北工业大学.陕西,西安(710072))∥航空精密制造技术.—1996,32(3).—5—9综述了对精密光学抛光影响精度和质量的因素,对重要因素目前的研究进展进行了分析;介绍了新型

简介：O72395021325磨抛工艺中HgCdTe晶片的表面损伤=SurfacedamageofHgCdTewafersinlappingandpolishing[刊,中]/姚英,蔡毅,欧明娣,梁宏林,朱惜辰(昆明物理所.云南,昆明(650223))//红外技术.—1994,16(5).—15—20用X射线反射形貌术研究了磨抛工艺在用Te溶剂法和布里奇曼法生长的碲镉汞晶片表面引入的

简介：高功率固体激光装置对KDP晶体光学元件的基本要求是大口径、高精度面形质量、高激光损伤阈值、良好的表面粗糙度。但是KDP晶体本身具有质软、易潮解、脆性高、对温度变化敏感、易开裂等一系列不利于光学加工的特点，传统的研磨抛光法不适于加工高精度的大口径KDP元件。国外加工此类元件已广泛采用先进的单点金刚石车削技术（简称SPDT）。采用SPDT技术加工KDP晶体元件，主要存在3个方面的加工误差，即晶体的面形误差、表面粗糙度（包括表面疵病）以及小尺度波纹等。

简介：全球最大的塑料添加剂制造商科聚亚公司在四月举办的中国国际橡塑展上带来了新一代“更绿色”的塑料添加剂。这些产品全部都经过检测，检测结果表明其性能优异、成本低、环境友好并对人类健康无害。

简介：汽巴精化公司将投资1亿美元在新加坡建设塑料抗氧剂装置，到2008年该装置将成为亚洲最大的抗氧剂装置。汽巴精化公司特种化学品如抗氧剂业务现在的年销售额达56．5亿美元。据预测，今后20年内，与塑料有关的产品需求将以两位数增长,亚洲增长将尤为强劲。

简介：TN30597010636大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测-等离子发射光谱法=Insitumonitoringetchprocessandend-pointforLSIbytheplasmaemis-

简介：TN30595021329相移掩模的计算机模拟方法研究[学,中]/沈锋;中科院光电技术研究所.—62页.—1994.6研究了亚微米微细光刻技术的一个热门领域—相移掩模提高分辨率.从Hopkins理论出发,导出了一般情况下的二维物体的部分相干成像的简化强度

简介：针对离轴TMA结构空间相机中使用的两块离轴非球面反射镜的加工过程,提出了一种新型的矩形轴非球面的最接近球面半径的求解及其优化方法,并且开发了基于计算机虚拟加工技术的CC()S工艺参数计算方法。被加工工件分别为165mm义100mm的矩形凸面