X光单级衍射光栅的研究进展

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摘要 介绍了单级衍射光栅的应用背景及其基本理论,分析了单级衍射光栅与传统黑白透射光栅的不同之处.阐述了单级衍射光栅的制作技术,分析了以电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术为主的工艺路线的优缺点.综述了X光单级衍射光栅的发展历程以及存在的问题,并指出了其未来的研究方向.
机构地区 不详
出版日期 2013年02月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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