简介:《半导体技术》以严谨风格,权威著述,在业内深孚众望,享誉中外,对我国半导体事业的发展发挥了积极的作用。"向读者提供更好资讯,为客户开拓更大市场,提供技术成果展示、转化和技术交流的平台,达到了促进我国半导体技术不断发展的目的"是《半导体技术》的追求,本刊一如既往地坚持客户至上,服务第一,竭诚向读者提供多元化的信息。趋势与展望:全面阐述半导体技术与应用的发展趋势;专题报道:每期就设计、生产、应用等企业关注的热门技术及焦点论题,进行有深度、广度的全面剖析;器件制造与应用:半导体器件的设计和制造及在各种领域中的应用;工艺技术与材料:介绍最新的半导体技术制作工艺和该领域用的新材料;集成电路设计与开发:各种IC的设计和应用技术、设计工具及发展动向;封装、测试与设备:介绍器件、芯片、电路的测试、设备和封装的前沿技术;MEMS技术:现代管理:半导体代工厂、洁净厂房、半导体用水及气体、化学品,等管理技术;综合新闻:及时发布世界各地半导体最新产品及技术信息。《半导体技术》的稿件来源于全国各主要研究机构、大专院校和企事业单位等。
简介:本刊以英文形式刊载下列领域的理论、设计、制造工艺、应用、性能影响和可靠性。它们是光通信器件及系统、新型光电子器件及工艺技术、专用光电子器件及系统、光电子集成和光集成、光计算与光互连、光电控测技术、光传感技术等。
简介:《气体物理》由中国航天科技集团公司主管、中国航天空气动力技术研究院(主要主办单位)、中国宇航出版有限责任公司共同主办。国内统一连续出版物号为CN10-1384/O3,中文,双月刊,大16开。逢单月(一月、三月、五月、七月、九月、十一月)出版,每年6期,每期64页。 《气体物理》主编为中国航天空气动力技术研究院院长李锋。第三届编辑委员会由12名高级顾问、9名副主编、73名编委组成,其中中国科学院院士11名。 《气体物理》的办刊宗旨:立足航天,面向全国,全面展示和介绍气体物理理论与应用领域最新研究成果和行业动态,为科技工作者提供理论研究与工程应用交流平台。 《气体物理》主要刊载流体动力学、稀薄流动力学、等离子体动力学以及化学反应流体动力学/气体动力学等领域的理论与实践、方法与手段、技术与应用等研究,尤其重视基本现象的理论研究。 《气体物理》的发行范围:国内力学界、物理数学界、航空航天工程、国防装备研发、风工程等研发领域的研究机构、高校、部队以及其它相关部门。 《气体物理》不限文章篇幅,不向作者收取审稿费、版面费等任何费用,评审登载周期约为3~6个月,一经登载,即付稿酬(200元/页)。若承蒙赐稿,请提供WORD文稿及办公电话和电子邮箱。 《气体物理》采取无偿赠阅发送方式。若有意邮寄阅览,请提供有效通信地址和邮政编码。